我们的技术平台融合先进的薄膜镀膜技术与超精密制造工艺,打造高性能表面与功能性组件。依托自主镀膜技术(包括过滤阴极真空电弧(FCVA)、磁控溅射(Magnetron Sputtering)、电弧蒸发 (Arc Evaporation)及等离子体增强化学气相沉积(PECVD)),我们实现了具备高硬度、优异耐磨性、耐腐蚀性与低摩擦特性的高性能薄膜。
结合垂直整合的微光学制造能力(从五轴金刚石车削、微精密模塑到纳米镀层),我们助力合作伙伴加速创新,并实现规模化应用,覆盖增强现实/虚拟现实 (AR/VR)、成像、传感与显示等领域。
我们设计并提供覆盖全技术谱系的真空镀膜设备平台,涵盖过滤阴极真空电弧、磁控溅射、电弧蒸发及等离子体增强化学气相沉积等先进工艺技术。
无论您需要小批量高一致性生产,还是高吞吐量的自动化产线,我们的单腔体、Load-Lock、连续式及混合式系统均以高可靠性、高产能与易集成为核心设计理念,可无缝导入现有生产流程,助力客户实现稳定量产与长期扩展。
过滤阴极真空电弧是一种先进的 物理气相沉积涂层技术,通过磁过滤系统去除等离子体中的大颗粒与微滴,仅保留高能碳离子沉积成致密、超硬、超光滑的 ta-C(类金刚石)薄膜。相比传统 物理气相沉积、化学气相沉积或电镀,过滤阴极真空电弧提供更高硬度、更低摩擦与更强的耐磨性能。
过滤阴极真空电弧的核心优势包括:
过滤阴极真空电弧广泛应用于:
TAC-ON® 类金刚石涂层尤其受到高端光学与精密工程行业的信赖。
纳峰科技提供多种可用于量产的过滤阴极真空电弧 真空镀膜系统,包括:
每个平台可根据客户工艺需求扩展或定制,实现更高生产效率与产能。
可以。
过滤阴极真空电弧工艺的沉积温度通常 低于 100–150°C,远低于传统物理气相沉积或化学气相沉积工艺,非常适合:
这使客户在镀膜后无需担心形变或材料性能劣化。